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Carbon Tetrafluoromethane (CF<sub>4</sub>)

四氟化碳(CF4

四氟化碳(CF4),又称作四氟甲烷,是一种无色、无毒、不燃烧气体,通常以压缩状态储存和运输,是目前半导体行业最主要的等离子体蚀刻气体之一,广泛应用于硅、二氧化硅、氧化硅、某些金属以及金属硅化物的蚀刻,同时,在低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘方面也有大量应用。

依托先进的电解和制氟工艺,经过几年的研发,开发出了5N和5.8N的四氟化碳产品,并建立了100吨/年稳定的四氟化碳生产线。

表1 5.8N与5N四氟化碳产品规格

项目名称 指标
四氟化碳 (CF4), 10-2 ≥ 99.9998 ≥ 99.999
氮气 (N2), 10-6 ≤ 1 ≤ 4
氧气 (O2), 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
水分 (H2O), 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
一氧化碳 (CO), 10-6 ≤ 0.1 ≤ 0.1
二氧化碳 (CO2), 10-6 ≤ 0.4 ≤ 1
六氟化硫 (SF6), 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1
其它氟碳化合物 (F-C), 10-6 ≤ 0.5 ≤ 1
总酸度 (以HF计), 10-6 ≤ 0.1 ≤ 1

注:所有规格为体积分数。

包装规格:

规格 容器尺寸/外径×高度*(cm) 平均重量(kg) 平均容积(L) 充装压力(MPa) 充装量(kg) 阀门规格
DOT 3AA2265 23×130/23×138.5 52/55 43.3/46.7 14 26/28 CGA580 铜阀
CGA320 铜阀

* 高度指瓶底到瓶颈的距离;

* 或根据客户要求提供其它规格的钢瓶和阀门。


应用领域:应用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻、低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘等

危险等级:第2.2类 不燃气体

应用:

电子级四氟化碳:它是目前半导体行业最主要的等离子体蚀刻气体之一,主要用于硅、二氧化硅、氮化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻。在低温制冷、电子器件表面清洗和气相绝缘等方面被广泛应用。

工厂图:

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